COXEM

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이온 건에 전압이 인가되고 아르곤 가스가 주입되면, 플라즈마가 발생하며 가속전압에 의해 이온 빔이 시료에 조사되어 식각이 시작됩니다.

시료를 금속재질의 시편마스크 뒤에 위치하여 이온 빔이 시편마스크와 시료에 동시에 조사될 때, 시편마스크의 쉴딩 효과(Shielding)로 시료의 빔 데미지를 최소화하여 깨끗한 단면 식각 결과를 얻을 수 있습니다.

코셈의 CP-8000+는 시료 단면에 구조적 손상과 같은 물리적 변형을 주지 않으며 화학적 공정 또한 필요하지 않아 복잡한 공정 없이 깨끗한 단면 처리가 가능합니다. 또한 수십㎛에서 수 mm 영역까지 보다 넓은 면적을 가공하여 시료 단면 분석에 용이합니다.

Minerals

이온 밀링으로 시료 단면의 산화층 및 이물질 제거 후, 보다 정확한 정성, 정량 분석을 위한 EPMA 성분 분석이 가능합니다.

Paper

설정된 Ion Beam On/Off 타이머에 맞추어 초 (sec) 단위로 빔을 켜고, 끄기를 반복하여 이온 빔에 의한 열 손상을 최소화 할 수 있는 기능입니다. 폴리머, 제지 등의 열에 민감한 시료를 식각할 때 적절히 사용하여 정확한 단면 상태를 얻기에 유용합니다.

Alloys

Battery

Fiber

Films

Semi-conductor

Solar cell

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